硅片清洗水處理
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基本情況
微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。
工藝流程圖
方案優勢
1、主要零部件均采用世界名牌産品，經CAD設計，技術先進，性能可靠、産水性能優良。
2、前置預處理保護裝置，確保高壓泵及反滲透膜不受硬物損壞。
3、脫鹽率高，運行壓力低的卷式復合膜提高了系統效率，并除低了運行成本。
4、産品濃縮水各設有流量計，以監視并調節運行出水量及系統回收率。
5、在線電導儀表連續監測産品水質，帶有設定值和報警。
6、進水及排水系統壓力表監測反滲透壓差，提示清洗時間，全面的系統監視，自動的儀表顯示。
7、靈敏的高壓、低壓開關;防止在異常狀況下對設備的損壞，確保系統的正常運轉。
8、硅材料清洗用超純水處理設備采用先進的膜保護系統定時沖洗膜表面，降低污染速度，延長膜使用壽命。
